Plasma processing system

WO03046959 Art A1 5. Juni 2003

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, Toshiba Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO03046959
Aktenzeichen: EP02788650
Anmeldetag: 26. November 2002
Veröffentlichung: 5. Juni 2003
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/02H01L21/205H01L21/3065C23C16/50C23C14/34

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: TOKYO ELECTRON LIMITED
Toshiba Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.250 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Toshiba

Japanischer Konzern, der Elektronik, Halbleiter, Energie- und Infrastrukturtechnik sowie Industrieanlagen entwickelt und herstellt.

13.633 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von