Low temperature compatible wide-pressure-range plasma flow device

WO03046970 Art A1 5. Juni 2003

Anmelder: The Regents of the University of California 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO03046970
Aktenzeichen: EP02798490
Anmeldetag: 21. November 2002
Veröffentlichung: 5. Juni 2003
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065C23C16/505

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: The Regents of the University of California
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 University of California

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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