Semiconductor device and manufacturing method

WO03046991 Art A1 5. Juni 2003

Anmelder: Hitachi, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO03046991
Aktenzeichen
EP02803920
Anmeldetag
21. November 2002
Veröffentlichung
5. Juni 2003
Rechtsraum
WO
IPC
H01L27/08H01L27/092H01L21/762
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Hitachi, Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Hitachi

Japanischer Konzern, der Technik für Energie, Bahn, Industrieanlagen, Informationstechnik und Haushaltsgeräte entwickelt und herstellt.

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