A photoelectron emission microscope for wafer and reticle inspection

WO03050841 Art A1 19. Juni 2003

Anmelder: Kla Tencor Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO03050841
Aktenzeichen: EP01991143
Anmeldetag: 14. Dezember 2001
Veröffentlichung: 19. Juni 2003
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/252H01J37/285G01N23/225G01N23/227

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Kla Tencor Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 KLA Corporation

US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.

495 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

Vertreten von

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