Method and device to enhance rf electrode performance

WO03051216 Art A1 26. Juni 2003

Anmelder: Ethicon, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO03051216
Aktenzeichen: EP02793947
Anmeldetag: 15. November 2002
Veröffentlichung: 26. Juni 2003
Rechtsraum: WO
IPC: A61B18/14

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Ethicon, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇵🇷 Ethicon

Unternehmen der Medizintechnik mit Sitz in Puerto Rico, Teil des Johnson-&-Johnson-Konzerns. Entwickelt chirurgisches Nahtmaterial, Instrumente und Wundverschlusssysteme.

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Fachgebiete

Medizintechnik & Gesundheit

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