Method for removal of impurities in cyclic siloxanes useful as precursors for low dielectric constant thin films

WO03051946 Art A2 26. Juni 2003

Anmelder: ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO03051946
Aktenzeichen: EP02786869
Anmeldetag: 6. Dezember 2002
Veröffentlichung: 26. Juni 2003
Rechtsraum: WO
IPC: C08G2/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Advanced Technology Materials

Der Anmelder ist ein US-amerikanischer Hersteller von Spezialchemikalien und Materialien für die Halbleiterindustrie, bekannt als ATMI, inzwischen Teil von Entegris. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter- und Elektrobauelemente sowie auf Verfahrens- und Trenntechnik, Metallurgie und Verpackungstechnik. Anmeldungen laufen seit dem Jahr 2000 durchgehend fort.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik

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