Reinigungsgaszusammensetzung für Anlage zur Halbleiterherstellung und Reinigungsverfahren mittels Dieser Gaszusammensetzung

WO03054247 Art A2 3. Juli 2003

Anmelder: Showa Denko K.K. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO03054247
Aktenzeichen: EP02790719
Anmeldetag: 12. Dezember 2002
Veröffentlichung: 3. Juli 2003
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/44H01L21/00B08B5/00H01L21/311H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Showa Denko K.K.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Showa Denko

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, seit 2023 als Resonac Holdings firmierend. Aktiv in Petrochemie, Elektronikmaterialien, Batteriematerialien sowie Halbleiterchemikalien.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Verfahrens- & Trenntechnik

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