Plasma treatment apparatus, matching box, impedance matching device, and coupler

WO03054940 Art A1 3. Juli 2003

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO03054940
Aktenzeichen: EP02786098
Anmeldetag: 13. Dezember 2002
Veröffentlichung: 3. Juli 2003
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/205H01L21/3065C23C16/509C23F4/00H05H1/46H03H7/38

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.250 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von