High-frequency power source and its control method, and plasma processor
WO03055286
Art A1
3. Juli 2003
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO03055286
- Aktenzeichen
- EP02788777
- Anmeldetag
- 10. Dezember 2002
- Veröffentlichung
- 3. Juli 2003
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H05H1/00H05H1/46H01L21/205H01L21/3065
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO ELECTRON LIMITED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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