Plasma chemical vapor deposition methods and apparatus

WO03057635 Art A1 17. Juli 2003

Anmelder: Corning Incorporated 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO03057635
Aktenzeichen: EP02778665
Anmeldetag: 28. Oktober 2002
Veröffentlichung: 17. Juli 2003
Rechtsraum: WO
IPC: C03B37/018

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Corning Incorporated
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Corning

US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Corning, New York. Corning ist spezialisiert auf Spezialglas, Keramik und optische Fasern für Displays, Telekommunikation, Automobiltechnik, Life Sciences und Umwelttechnik.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe

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