Method and apparatus for process monitoring and control

WO03065132 Art A2 7. August 2003

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO03065132
Aktenzeichen: EP03707290
Anmeldetag: 28. Januar 2003
Veröffentlichung: 7. August 2003
Rechtsraum: WO
IPC: G05B1/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.250 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Steuerungs- & Regelungstechnik

Vertreten von