Liquid detergent for semiconductor device substrate and method of cleaning
WO03065433
Art A1
7. August 2003
Anmelder: MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO03065433
- Aktenzeichen
- EP03734849
- Anmeldetag
- 27. Januar 2003
- Veröffentlichung
- 7. August 2003
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/304B08B3/08C11D1/72
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- MITSUBISHI CHEMICAL CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, Teil der Mitsubishi-Chemical-Gruppe. Das Unternehmen entwickelt Grund- und Spezialchemikalien, Kunststoffe, Materialien für Elektronik und Energiespeicher sowie Pharma- und Life-Science-Produkte.
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