Silicon purifying method, slag for purifying silicon, and purified silicon

WO03066523 Art A1 14. August 2003

Anmelder: Sharp Kabushiki Kaisha 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO03066523
Aktenzeichen: EP03703152
Anmeldetag: 3. Februar 2003
Veröffentlichung: 14. August 2003
Rechtsraum: WO
IPC: C01B33/037

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Sharp Kabushiki Kaisha
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Sharp

Japanischer Elektronikkonzern mit Sitz in Sakai bei Osaka, seit 2016 mehrheitlich zu Foxconn gehörend. Aktiv in Displaytechnik (LCD, OLED), Unterhaltungselektronik, Haushaltsgeräten sowie Halbleiter- und Solartechnologie.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe

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