Method for manufacturing semiconductor device, and semiconductor device

WO03069662 Art A1 21. August 2003

Anmelder: Hitachi, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO03069662
Aktenzeichen
EP02700598
Anmeldetag
18. Februar 2002
Veröffentlichung
21. August 2003
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/3205H01L21/768
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Hitachi, Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Hitachi

Japanischer Konzern, der Technik für Energie, Bahn, Industrieanlagen, Informationstechnik und Haushaltsgeräte entwickelt und herstellt.

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