Nanoporous dielectric films with graded density and process for making such films

WO03069672 Art A1 21. August 2003

Anmelder: Honeywell International Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO03069672
Aktenzeichen: EP02720795
Anmeldetag: 3. Januar 2002
Veröffentlichung: 21. August 2003
Rechtsraum: WO
IPC: H01L23/522H01L21/316

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Honeywell International Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Honeywell

US-amerikanischer Mischkonzern mit Schwerpunkten in Luft- und Raumfahrttechnik, Automatisierungslösungen, Gebäudetechnik sowie Spezialchemikalien und -materialien für Industrie- und Verteidigungskunden.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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