Composition for forming silica based coating film, silica based coating film and method for preparation thereof, and electronic parts

WO03072668 Art A1 4. September 2003

Anmelder: HITACHI CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO03072668
Aktenzeichen
EP03743040
Anmeldetag
26. Februar 2003
Veröffentlichung
4. September 2003
Rechtsraum
WO
IPC
C09D183/02C09D183/04C09D5/25
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
HITACHI CHEMICAL CO., LTD.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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