Composition for forming silica based coating film, silica based coating film and method for preparation thereof, and electronic parts
WO03072668
Art A1
4. September 2003
Anmelder: HITACHI CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO03072668
- Aktenzeichen
- EP03743040
- Anmeldetag
- 26. Februar 2003
- Veröffentlichung
- 4. September 2003
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C09D183/02C09D183/04C09D5/25
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- HITACHI CHEMICAL CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi Chemical
Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.
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