Temperature measuring system, heating device using it and production method for semiconductor wafer, heat ray insulating translucent member, visible light reflection membner, exposure system-use reflection mirror and exposure system, and semiconductor device produced by using them and vetical heat t

WO03073055 Art A1 4. September 2003

Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO03073055
Aktenzeichen: EP03705401
Anmeldetag: 24. Februar 2003
Veröffentlichung: 4. September 2003
Rechtsraum: WO
IPC: G01J5/08H01L21/26H01K1/32H01L21/027G03F7/20H01L21/324G02B5/26G02B5/28H05B3/00

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

🇯🇵 Shin-Etsu Handotai

Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.

1.022 Patente in unserer Datenbank

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

Kein Vertreter erfasst.