Method for processing substrate
WO03073492
Art A1
4. September 2003
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO03073492
- Aktenzeichen
- EP03707152
- Anmeldetag
- 27. Februar 2003
- Veröffentlichung
- 4. September 2003
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/318H01L29/78
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO ELECTRON LIMITED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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