Schutzgruppen Enthaltende Polymere für Lithographische Resistzusammensetzungen

WO03075092 Art A2 12. September 2003

Anmelder: MASSACHUSETTS INSTITUTE OF TECHNOLOGY 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO03075092
Aktenzeichen: EP03733836
Anmeldetag: 28. Februar 2003
Veröffentlichung: 12. September 2003
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MASSACHUSETTS INSTITUTE OF TECHNOLOGY
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Massachusetts Institute of Technology

US-amerikanische Universität mit Sitz in Cambridge, Massachusetts, eine der weltweit führenden Forschungseinrichtungen. Aktiv in nahezu allen technischen und naturwissenschaftlichen Feldern, darunter Informatik, Ingenieurwesen, Materialwissenschaften und Biotechnologie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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