Plasma processing device and plasma generating method

WO03077302 Art A1 18. September 2003

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, Yasaka, Yasuyoshi, Takahashi, Masaharu, Ando, Makoto 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO03077302
Aktenzeichen: EP03710320
Anmeldetag: 12. März 2003
Veröffentlichung: 18. September 2003
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: TOKYO ELECTRON LIMITED
Yasaka, Yasuyoshi
Takahashi, Masaharu
Ando, Makoto
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.250 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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