Thin silica film and silica-titania composite film, and method for preparing them

WO03078320 Art A1 25. September 2003

Anmelder: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO03078320
Aktenzeichen: EP03715377
Anmeldetag: 19. März 2003
Veröffentlichung: 25. September 2003
Rechtsraum: WO
IPC: C01B33/12C01G23/04C03C17/25B05D7/24B01J35/02// H01L21/316

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 National Institute of Advanced Industrial Science and Technology

Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.

3.785 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von