Defect inspection method
WO03079292
Art A1
25. September 2003
Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO03079292
- Aktenzeichen
- EP03715366
- Anmeldetag
- 17. März 2003
- Veröffentlichung
- 25. September 2003
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G06T1/00G01N21/956
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hitachi High-Technologies Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi High-Tech Corporation
Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.
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