A system and method for determining the state of a film in a plasma reactor using an electrical property

WO03083911 Art A1 9. Oktober 2003

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO03083911
Aktenzeichen: EP03721412
Anmeldetag: 28. März 2003
Veröffentlichung: 9. Oktober 2003
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/00C23C16/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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