Substrate conveying mechanism and substrate conveying method
WO03092068
Art A1
6. November 2003
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO03092068
- Aktenzeichen
- EP03717647
- Anmeldetag
- 18. April 2003
- Veröffentlichung
- 6. November 2003
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/68B65G49/07B25J15/10
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO ELECTRON LIMITED
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
6.250 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.