Material subjected to vacuum evaporation, mgo material subjected to vacuum evaporation, process for producing the same and method of forming film
WO03097895
Art A1
27. November 2003
Anmelder: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO03097895
- Aktenzeichen
- EP03752915
- Anmeldetag
- 19. Mai 2003
- Veröffentlichung
- 27. November 2003
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/24C23C14/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Materials
Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.
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