Chemical mechanical planarization of low dielectric constant materials

WO03098680 Art A1 27. November 2003

Anmelder: Honeywell International Inc., Honeywell International, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO03098680
Aktenzeichen: EP03724583
Anmeldetag: 13. Mai 2003
Veröffentlichung: 27. November 2003
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/461

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Honeywell International Inc.
Honeywell International, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Honeywell

US-amerikanischer Mischkonzern mit Schwerpunkten in Luft- und Raumfahrttechnik, Automatisierungslösungen, Gebäudetechnik sowie Spezialchemikalien und -materialien für Industrie- und Verteidigungskunden.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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