Radiation-sensitive resin composition, process for producing substrate having patterned resin film, and use of the resin composition

WO03100524 Art A1 4. Dezember 2003

Anmelder: Zeon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO03100524
Aktenzeichen: EP03730641
Anmeldetag: 27. Mai 2003
Veröffentlichung: 4. Dezember 2003
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/038G03F7/004H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Zeon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Zeon

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Zeon Corporation entwickelt synthetische Kautschuke, Spezialchemikalien und Elastomere für Anwendungen in Automobil-, Elektronik- und Batterieindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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