Verfahren zum Dichten von Elektronischen, Optischen, Elektro-Optischen Gehäusen und Entsprechendes Gehäuse und Substratdesign

WO03102657 Art A1 11. Dezember 2003

Anmelder: Intel Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO03102657
Aktenzeichen
EP03718490
Anmeldetag
17. April 2003
Veröffentlichung
11. Dezember 2003
Rechtsraum
WO
IPC
G02B6/42
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Intel Corporation
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Intel

US-amerikanischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Kalifornien. Entwickelt und produziert Prozessoren, Chipsätze sowie weitere Halbleiterkomponenten für Computer, Server und eingebettete Systeme.

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