Method and apparatus for monitoring film deposition in a process chamber

WO03103021 Art A1 11. Dezember 2003

Anmelder: Tokyo Electron Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO03103021
Aktenzeichen: EP03756179
Anmeldetag: 29. Mai 2003
Veröffentlichung: 11. Dezember 2003
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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