Substrate processing device, substrate processing method, and nozzle

WO03103030 Art A1 11. Dezember 2003

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO03103030
Aktenzeichen: EP03723242
Anmeldetag: 6. Mai 2003
Veröffentlichung: 11. Dezember 2003
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F7/30

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: TOKYO ELECTRON LIMITED
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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