Verfahren zur Abscheidung Transparenter Leitf Higer Schichte N mittels Helium-Haltigem Sputtergas

WO03104518 Art A1 18. Dezember 2003

Anmelder: Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO03104518
Aktenzeichen: EP03712118
Anmeldetag: 31. März 2003
Veröffentlichung: 18. Dezember 2003
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/08C23C14/35H01J37/34

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Fraunhofer-Gesellschaft

Deutsche gemeinnützige Forschungsorganisation mit Sitz in München. Betreibt anwendungsorientierte Forschung in Technik und Naturwissenschaften über zahlreiche Institute für Industrie und Gesellschaft.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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