Method of forming surface indent and use thereof

WO03104899 Art A1 18. Dezember 2003

Anmelder: Hitachi Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO03104899
Aktenzeichen: EP03733312
Anmeldetag: 6. Juni 2003
Veröffentlichung: 18. Dezember 2003
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/38G03F7/36G03F7/027G02B5/02G02F1/1335

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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