Semiconductor wafer shape evaluating method and shape evaluating device
WO03106925
Art A1
24. Dezember 2003
Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO03106925
- Aktenzeichen
- EP03733336
- Anmeldetag
- 10. Juni 2003
- Veröffentlichung
- 24. Dezember 2003
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01B21/20H01L21/66
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Handotai
Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.
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Vertreten von
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