Prozess zur Reinigung von Pentafluoroethan, Prozess zur dessen Herstellung und dessen Verwendung

WO2004005226 Art A1 15. Januar 2004

Anmelder: Showa Denko K.K. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004005226
Aktenzeichen: EP03738597
Anmeldetag: 30. Juni 2003
Veröffentlichung: 15. Januar 2004
Rechtsraum: WO
IPC: C07C17/389C07C19/08

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: Showa Denko K.K.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Showa Denko

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, seit 2023 als Resonac Holdings firmierend. Aktiv in Petrochemie, Elektronikmaterialien, Batteriematerialien sowie Halbleiterchemikalien.

2.327 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Organische Chemie

Vertreten von