Verfahren und Vorrichtung zur Reduzierung der Gegenseitigen Verunreinigung der Spezies Wärend der Ionenimplantierung

WO2004006280 Art A2 15. Januar 2004

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004006280
Aktenzeichen: EP03762764
Anmeldetag: 1. Juli 2003
Veröffentlichung: 15. Januar 2004
Rechtsraum: WO
IPC: H01J27/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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