Organic siloxane copolymer film, method and deposition apparatus for producing same, and semiconductor device using such copolymer film

WO2004008517 Art A1 22. Januar 2004

Anmelder: NEC Corporation, NEC CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004008517
Aktenzeichen: EP03741411
Anmeldetag: 15. Juli 2003
Veröffentlichung: 22. Januar 2004
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/312C08F230/08C08F236/22C08G61/12C23C14/12H01L21/768

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: NEC Corporation
NEC CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 NEC

Japanischer Technologiekonzern mit Sitz in Tokio, der IT- und Netzwerklösungen, Telekommunikationsausrüstung sowie Sicherheits- und Biometrietechnik anbietet.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

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