Method, article and composition for limiting particle aggregation in a mask deposited by a colloidal suspension

WO2004010229 Art A1 29. Januar 2004

Anmelder: Micron Technology, Inc., Wells, David H., Hoffman, James J. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004010229
Aktenzeichen: EP00920221
Anmeldetag: 6. April 2000
Veröffentlichung: 29. Januar 2004
Rechtsraum: WO
IPC: G03F9/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Micron Technology, Inc.
Wells, David H.
Hoffman, James J.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Micron Technology

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Boise, Idaho. Micron entwickelt und fertigt Speicherchips wie DRAM und NAND-Flash sowie Speicherlösungen für Computer, Mobilgeräte, Rechenzentren und Automobile.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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