Soi wafer and production method therefor

WO2004010505 Art A1 29. Januar 2004

Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004010505
Aktenzeichen: EP03765299
Anmeldetag: 16. Juli 2003
Veröffentlichung: 29. Januar 2004
Rechtsraum: WO
IPC: H01L27/12H01L21/265

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Handotai

Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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