Plasma processing device and controlling method therefor

WO2004010746 Art A1 29. Januar 2004

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, Nihon Koshuha Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004010746
Aktenzeichen: EP03765374
Anmeldetag: 24. Juli 2003
Veröffentlichung: 29. Januar 2004
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/00H05H1/46H01L21/205C23C16/511

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: TOKYO ELECTRON LIMITED
Nihon Koshuha Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

6.250 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von