Polishing fluid and polishing method

WO2004012248 Art A1 5. Februar 2004

Anmelder: Hitachi Chemical Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2004012248
Aktenzeichen
EP03771305
Anmeldetag
24. Juli 2003
Veröffentlichung
5. Februar 2004
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/304C09K3/14
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Hitachi Chemical Co., Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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