Reactive aqueous metal oxide sols as polishing slurries for low dielectric constant materials

WO2004015018 Art A1 19. Februar 2004

Anmelder: Honeywell International Inc., Honeywell International, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004015018
Aktenzeichen: EP03784745
Anmeldetag: 19. Juni 2003
Veröffentlichung: 19. Februar 2004
Rechtsraum: WO
IPC: C09G1/02C09G1/04B24D3/00B24D11/00B24D17/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Honeywell International Inc.
Honeywell International, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Honeywell

US-amerikanischer Mischkonzern mit Schwerpunkten in Luft- und Raumfahrttechnik, Automatisierungslösungen, Gebäudetechnik sowie Spezialchemikalien und -materialien für Industrie- und Verteidigungskunden.

13.046 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von