Methods and apparatus for in situ substrate temperature monitoring by electromagnetic radiation emission
WO2004015157
Art A2
19. Februar 2004
Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2004015157
- Aktenzeichen
- EP03785294
- Anmeldetag
- 13. August 2003
- Veröffentlichung
- 19. Februar 2004
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C2/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- LAM RESEARCH CORPORATION
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Lam Research
US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.
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