High throughput inspection system and method for generating transmitted and/or reflected images

WO2004015404 Art A2 19. Februar 2004

Anmelder: Applied Materials, Inc., Applied Materials Israel Ltd. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004015404
Aktenzeichen: EP03785096
Anmeldetag: 6. August 2003
Veröffentlichung: 19. Februar 2004
Rechtsraum: WO
IPC: G01N21/956H01L21/66G01N21/21G01N21/88

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Applied Materials, Inc.
Applied Materials Israel Ltd.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

Vertreten von