Surface modification of cvd polymer films

WO2004016672 Art A2 26. Februar 2004

Anmelder: RENSSELAER POLYTECHNIC INSTITUTE 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004016672
Aktenzeichen: EP03788635
Anmeldetag: 19. August 2003
Veröffentlichung: 26. Februar 2004
Rechtsraum: WO
IPC: C08G61/02B05D7/24C23C16/30C23C16/56

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: RENSSELAER POLYTECHNIC INSTITUTE
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Rensselaer Polytechnic Institute

Das Rensselaer Polytechnic Institute ist eine private technische Universität mit Sitz in Troy, New York, und eine der ältesten technischen Hochschulen der USA. Das Patentportfolio streut breit über Medizintechnik, Halbleiter und Mess- und Prüftechnik, mit weiteren Anmeldungen in Pharma, Kunststofftechnik und Software. Anmeldungen decken den Zeitraum 2000 bis 2025 ab.

418 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Metallurgie & Oberflächentechnik Verfahrens- & Trenntechnik

Vertreten von