Mask blank manufacturing method, transfer mask manufacturing method, sputtering target for manufacturing mask blank

WO2004017140 Art A1 26. Februar 2004

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004017140
Aktenzeichen: EP03788139
Anmeldetag: 19. August 2003
Veröffentlichung: 26. Februar 2004
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/08H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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