Nitrogen sources for molecular beam epitaxy

WO2004022819 Art A1 18. März 2004

Anmelder: Honeywell International Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004022819
Aktenzeichen: EP03794575
Anmeldetag: 4. September 2003
Veröffentlichung: 18. März 2004
Rechtsraum: WO
IPC: C30B23/02C30B29/40H01L21/203

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Honeywell International Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Honeywell

US-amerikanischer Mischkonzern mit Schwerpunkten in Luft- und Raumfahrttechnik, Automatisierungslösungen, Gebäudetechnik sowie Spezialchemikalien und -materialien für Industrie- und Verteidigungskunden.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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