Verfahren und Vorrichtung zur Entfernung von Gas aus dem Aufnahmegehäuse eines Ringlaserkreisels
WO2004023076
Art A2
18. März 2004
Anmelder: Honeywell International Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2004023076
- Aktenzeichen
- EP03770279
- Anmeldetag
- 2. September 2003
- Veröffentlichung
- 18. März 2004
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G01C19/66H01S5/10
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Honeywell International Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Honeywell
US-amerikanischer Mischkonzern mit Schwerpunkten in Luft- und Raumfahrttechnik, Automatisierungslösungen, Gebäudetechnik sowie Spezialchemikalien und -materialien für Industrie- und Verteidigungskunden.
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