Pattern formation substrate and method of pattern formation
WO2004023541
Art A1
18. März 2004
Anmelder: Sharp Kabushiki Kaisha 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2004023541
- Aktenzeichen
- EP03736057
- Anmeldetag
- 5. Juni 2003
- Veröffentlichung
- 18. März 2004
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/3205H01L29/786B41J2/01H05K3/10
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Sharp Kabushiki Kaisha
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Sharp
Japanischer Elektronikkonzern mit Sitz in Sakai bei Osaka, seit 2016 mehrheitlich zu Foxconn gehörend. Aktiv in Displaytechnik (LCD, OLED), Unterhaltungselektronik, Haushaltsgeräten sowie Halbleiter- und Solartechnologie.
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