Probing method and probe

WO2004023548 Art A1 18. März 2004

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, Suga, Tadatomo, Okumura, Katsuya, Itoh, Toshihiro, Kataoka, Kenichi 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2004023548
Aktenzeichen
EP03794166
Anmeldetag
1. September 2003
Veröffentlichung
18. März 2004
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/66
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
TOKYO ELECTRON LIMITED
Suga, Tadatomo
Okumura, Katsuya
Itoh, Toshihiro
Kataoka, Kenichi
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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