Vorrichtung und Verfahren zur Überwachung der Abscheidung Dünner Schichten auf Optischen Substraten

WO2004025219 Art A1 25. März 2004

Anmelder: Honeywell International Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2004025219
Aktenzeichen: EP03749627
Anmeldetag: 10. September 2003
Veröffentlichung: 25. März 2004
Rechtsraum: WO
IPC: G01B11/06C23C14/54

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Honeywell International Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Honeywell

US-amerikanischer Mischkonzern mit Schwerpunkten in Luft- und Raumfahrttechnik, Automatisierungslösungen, Gebäudetechnik sowie Spezialchemikalien und -materialien für Industrie- und Verteidigungskunden.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

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